C-Si Yüzeylerin Güneş Hücrelerinde Foton Yönetimi Için Hızlı, Tek Adımlı, Aşındırıcı Içermeyen Şekilde Nano Yapılandırması


PAVLOV I. (Yürütücü)

TÜBİTAK Projesi, 2019 - 2021

  • Proje Türü: TÜBİTAK Projesi
  • Başlama Tarihi: Haziran 2019
  • Bitiş Tarihi: Aralık 2021

Proje Özeti

Mevcut projede, c-Si tabanlı güneş pili (SC) yüzeyinin nano yapılandırılması için yeni bir teknik olan Nonlinear Laser Lithography (NLL) kullanılacaktır. Bu nano yapılandırma, c-Si tarafından ışığın soğurumunu artıracak ve böylece SC'nin verimliliğini artıracaktır. Günümüzde geleneksel olarak SC mikro-nano yapılandırması için kullanılan birkaç iyi bilinen yöntem vardır. Islak kimyasal aşındırmanın aksine; mevcut SC endüstrisinde geleneksel olarak kullanılan SC yüzey nano-mikro-yapılandırma metodu olan NLL metodu, herhangi bir tehlikeli kimyasal madde ve karmaşık proses sonrası aşamalarını gerektirmez. Birkaç lazer yüzey yapılandırma tekniği ile karşılaştırıldığında, NLL yöntemi, SC yüzeyinin elektriksel özelliklerini bozmaması beklenen en düzenli ve düzgün geniş alanlı nano yapıyı verirken aynı zamanda yüzeyine daha az zarar verir. Geleneksel litografi tekniklerine kıyasla, NLL yöntemi, endüstriyel hızla kabul edilebilir standartlara ölçeklenebilir işleme hızıyla tek bir adımdır.

NLL yöntemi, Lazer Kaynaklı Periyodik Yüzey Yapılandırmanın (LIPSS) bilinen bir fenomene dayanır. Yüksek yoğunluklu kısa darbe lazer ışınımı altında yüzeye, periyodik hasar olarak (periyodik ablasyon) lazerin dalga boyundan daha kısa bir periyotla görünür. Yapı periyodu, ortaya çıkan lazer ışığının yüzey boyunca dağınık olan ışığın etkileşiminin bir sonucu olarak ortaya çıkar. NLL yönteminde, yüzeye on (μm) mikron boyutunda odaklanan lazer ışını, belirlenen polarizasyon, tarama hızı ve yönü ile yüzey üzerinde taranır. İşleme parametreleri doğru seçilirse, mikrometre altı periyodu ile çok düzenli periyodik çizgiler şeklinde geniş alan üzerinde kendi kendini düzenleyen bir desen ortaya çıkar. Bu sürenin, lazer spot çapının kırınım sınırına, yani lazer yüzeyi üzerinde oluşturulan kraterin çapına bağlı olarak başka doğrudan lazer işleme teknikleriyle elde edilmesi mümkün değildir. Literatür araştırması, LIPSS ile ilgili yayın miktarlarının son on yılda katlanarak arttığını göstermektedir. Triboloji, plazmonik, sıvı kristal yönlendirme ve biyo-tıbbi uygulamalar için yüzey nano-yapılandırması gibi birçok uygulama bulmuştur. Yine de, en iyi bilgimize göre, bugüne kadar SC uygulamaları için gösterilmedi. Küçük alanlı (1x1 cm2) SC yüzey üzerinde NLL ile oluşturduğumuz nano yapılara ait ön sonuçlarımız, SC verimliliğinin %6'dan %9'a yükseldiğini göstermektedir ve bu da bu tekniğin SC endüstrisi için potansiyelini gösterir. Bununla birlikte, NLL tekniğini büyük ölçekli SC yapılandırması için kabul edilebilir kılmak için mevcut önerinin kapsamı dahilinde birkaç araştırma ve teknolojik problem çözülmesi gerekmektedir.

Toplamda proje dört iş paketinden oluşmaktadır.

I. Tekrarlama oranı 4 MHz, darbe enerjisi 2 μJ, ortalama 8 W güç ve 300 fs'den daha kısa darbe süresi ile 1030 nm'de çalışan yüksek güçte yüksek tekrarlama oranı fiber pico-femtosecond lazerin geliştirilmesi. Ayrıca, lazerin tekrarlama hızını, darbe enerjisini, ortalama gücü ve darbe süresini geniş aralıkta değiştirme seçeneği vardır. Aynı iş paketinde, lazer sistemini 3D çeviri aşaması ve hızlı galvo tarayıcı ile hızlı tarama kurulumuna entegre edilmesi.

II. İşlenmiş c-Si yüzeyinin fotonik özelliklerinin optimizasyonu. Bu çalışma paketi sırasında farklı c-Si levhaları işleyip farklı lazer ve tarama sistemi parametrelerinin bir fonksiyonu olarak yüzeyin optik özelliklerini inceleyeceğiz. Yüzeyden en küçük dağınık ve toplam yansıma ve böylece c-Si'nin en yüksek soğurumuna karşılık gelen işleme parametrelerini bulacağız. Deneysel çalışmalara ek olarak, bu çalışma paketi içerisinde tasarlanan optik özelliklere en uygun yüzeyin yapısını tanımlamak için sayısal benzetim yapacağız.

III. Cihaz imalatı, karakterizasyonu ve optimizasyonu. Bu çalışma paketi sırasında yapılandırılmış pullarda SC'yi geliştireceğiz ve performansını ve elektriksel özelliklerini belirleyeceğiz. Elde edilen sonuçlara bağlı olarak, nano yapılandırma düzeneğinde gerekli parametreleri optimize edeceğiz.

IV. Geniş alan endüstriyel olarak kabul edilebilir işleme hızı için lazer yapılandırma sisteminin optimizasyonu. Bu çalışma paketi boyunca, lazerin en yüksek tekrarlama oranı için tarama hızını maksimum darbe enerjisiyle optimize edeceğiz.

Projenin temel amacı SC yüzeyinin optik ve elektriksel özellikleri ile geleneksel ıslak kimyasal aşındırma ile elde edilenlerle karşılaştırılabilir endüstriyel olarak kabul edilebilir işlem hızına ulaşmaktır.