Growth of planar non-polar {1-1 0 0} m-plane gallium nitride with metalorganic chemical vapor deposition (MOCVD)
İmer M. B., Denbaars S., Speck J., Nakamura S.
Patent, BÖLÜM G Fizik, Buluşun Tescil No: 7338828 , Standart Tescil, 2008, Tescil Edildi
- Fikri Mülkiyet: Patent
- Başvuru Yapılan Ülke/Kuruluş: Amerika Birleşik Devletleri
- Buluşun Durumu: Tescil Edildi
- Başvuru Tarihi: 6.03.2006
- Tescil Tarihi: 4.03.2008