Fabrication and characterization of aluminum oxide and silicon/aluminum oxide films with Si nanocrystals formed by magnetron co-sputtering technique

---

Tezin Türü: Yüksek Lisans

Tezin Yürütüldüğü Kurum: Orta Doğu Teknik Üniversitesi, Fen Edebiyat Fakültesi, Fizik Bölümü, Türkiye

Tezin Onay Tarihi: 2008

Tezin Dili: İngilizce

Öğrenci: İLKER DOĞAN

Danışman: RAŞİT TURAN

Açık Arşiv Koleksiyonu: AVESİS Açık Erişim Koleksiyonu

Özet:

Doğru akım (DC) ve radyo frekanslı (RF) mıknatıslı eş saçtırma tekniği, değişik kompozisyonlu ince film üretimi için kullanılan en uygun tekniklerden biridir. Bu çalışmada, Al2O3 ve Si/Al2O3 ince filmleri mıknatıslı eş saçtırma yöntemi ile üretilmiştir. Al2O3 ince filmler için, stokiyometrik, optik ve kristalografikanalizler gerçekleştirilmiştir. Si içeren Al2O3 örnekler için ise, Si nanokristallerin oluşum koşulları incelenmiştir. Bunun için, ince filmler Si (100) alttaşlarınüzerine saçtırılmıştır. Al2O3 matrisin ve Si nanokristallerin değişik sıcaklıklardaki evrimini incelemek için örnekler üretim sonrası fırınlamaya tabi tutulmuştur. Kristalografik özellikler ve nanokristallerin boyutları X-Işını Kırınımı (XRD) tekniği ile belirlenmiştir. Atomik derişimlerdeki değişim ve bağ oluşumları XIşını Fotoelektron Spektroskopisi (XPS) ile incelenmiştir. Si nanokristallerin ve Al2O3 matrisin ışıma özellikleri ise Fotoışıma Spektroskopisi (PL) ile incelenmiştir. Son olarak, matristen ve nanokristallerden gelen karakteristik ışımalar ayrı ayrı tanımlanmıştır.